普泰克制冷設(shè)備
專注于半導體行業(yè)溫控
服務熱線：021-51602552
專注于半導體行業(yè)溫控
服務熱線：021-51602552
RECOMMENDED
型號：
型號：
型號：
型號：
型號：
型號：
型號：
型號：
型號：
型號：
型號：
型號：
Strict control at every level, striving for perfection, we dedicate ourselves so you can rest assured
PRODUCT CENTER
型號：
型號：
型號：
型號：
型號：
型號：
型號：PTLQ系列
型號：
型號：
型號：
型號：
型號：
ABOUT US
ARTICLE CENTER
在工業(yè)制冷與空調(diào)系統(tǒng)中，Chiller（半導體冷水裝置）作為核心設(shè)備，扮演著至關(guān)重要的角色。它是一種能夠產(chǎn)生并維持低溫冷卻水或冷凍液的裝置，通過循環(huán)系統(tǒng)將冷量傳遞至需要降溫的設(shè)備或空間，確保其在最佳溫度范圍內(nèi)運行，從而保障生產(chǎn)效率、產(chǎn)品質(zhì)量及設(shè)備壽命。Chiller廣泛應用于電子、化工、制藥、食品加工、數(shù)據(jù)中心、商業(yè)建筑等多個領(lǐng)域，是現(xiàn)代工業(yè)至關(guān)重要的溫控解決方案。Chiller的分類多樣，主要依據(jù)其冷卻方式、結(jié)構(gòu)形式及應用場景進行劃分：1.按冷卻方式分類：可分為風冷式和水冷...
排內(nèi)冷卻液分配單元（CDU）的冷卻方式以液冷技術(shù)為核心，通過液體循環(huán)直接吸收并傳遞熱量，具有高效率、高密度、低噪音等顯著優(yōu)勢，特別適用于高功率密度數(shù)據(jù)中心和計算場景。以下是其冷卻方式的主要特點：1.高效熱傳導，縮短傳熱路徑液體直接冷卻：CDU通過泵驅(qū)動冷卻液（如去離子水、礦物油或氟化物）循環(huán)，直接接觸CPU、GPU等發(fā)熱器件，或通過冷板間接傳導熱量。液體載熱能力遠高于空氣，傳熱效率提升數(shù)倍。低溫液體直供：冷卻液由CDU直接供給通訊設(shè)備內(nèi)部，減少中間傳熱環(huán)節(jié)，縮短傳熱路徑，確保...
精準控溫，高效生產(chǎn)在化工、制藥等行業(yè)中，溫度控制是生產(chǎn)工藝的核心環(huán)節(jié)之一。TCU溫控系統(tǒng)憑借其精準的控溫能力、快速的升降溫性能以及靈活的定制化設(shè)計，成為反應釜、蒸餾、萃取等設(shè)備的理想溫控解決方案。無論是高溫反應還是低溫工藝，TCU都能提供穩(wěn)定可靠的溫度控制，助力企業(yè)提升生產(chǎn)效率與產(chǎn)品質(zhì)量。TCU溫控系統(tǒng)PTCU系列產(chǎn)品介紹TCU溫控系統(tǒng)是一種集加熱與制冷功能于一體的高精度溫控設(shè)備。控溫對象適用于反應釜、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、精餾塔等多種設(shè)備的外循環(huán)控溫需求。是否支持定制支持定制。PRO...
在5G通信、人工智能、新能源汽車等戰(zhàn)略產(chǎn)業(yè)驅(qū)動下，芯片制程持續(xù)向3nm以下節(jié)點邁進，對生產(chǎn)環(huán)境的溫度控制精度提出嚴苛要求。芯片半導體專用冷水機作為光刻、蝕刻、薄膜沉積等核心工藝的“溫度守護者”，通過突破性技術(shù)創(chuàng)新，實現(xiàn)了±0.01℃的控溫精度與毫秒級響應速度，成為支撐高級芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵基礎(chǔ)設(shè)施。一、超精密控溫：突破納米級工藝極限傳統(tǒng)冷水機采用單點控溫模式，難以應對芯片制造中多溫區(qū)協(xié)同需求。專用冷水機搭載分布式溫度傳感網(wǎng)絡(luò)與多變量預測控制算法，可對光刻機物鏡、晶圓...
在半導體制造、生物醫(yī)藥、激光加工等高精尖領(lǐng)域，設(shè)備運行對溫度波動的容忍度往往低于±0.1℃，甚至需達到±0.01℃的精度。作為溫度控制系統(tǒng)的核心組件，Chiller高精度換熱溫控單元通過集成智能控制算法、高效換熱技術(shù)與動態(tài)補償機制，成為保障工藝穩(wěn)定性、提升產(chǎn)品良率的關(guān)鍵設(shè)備。本文從技術(shù)原理、核心優(yōu)勢及應用場景三方面，解析其如何重塑精密工業(yè)的溫度控制范式。一、技術(shù)原理：閉環(huán)控制+動態(tài)響應，實現(xiàn)“毫秒級”調(diào)溫Chiller單元采用壓縮機制冷+電加熱補償...
在化工、材料科學及新能源研發(fā)領(lǐng)域，高壓反應釜作為模擬異常條件的核心設(shè)備，其溫度控制的精度與穩(wěn)定性直接影響實驗結(jié)果的可靠性與產(chǎn)品性能。然而，傳統(tǒng)恒溫系統(tǒng)因響應滯后、溫度波動大等問題，難以滿足高壓環(huán)境下對冷熱源動態(tài)調(diào)控的嚴苛需求。樣品冷熱臺高低溫設(shè)備的出現(xiàn)，為這一難題提供了創(chuàng)新解決方案，成為推動高壓反應技術(shù)升級的關(guān)鍵工具。1.動態(tài)恒溫：破解高壓反應控溫難題高壓反應釜在運行過程中需頻繁切換加熱與冷卻模式，以模擬實際工況中的溫度變化。傳統(tǒng)控溫方式依賴單一介質(zhì)循環(huán)，存在熱慣性大、溫度梯...
友情鏈接：
ptktg001@pro-teco.com
掃碼加微信
Copyright © 2025 普泰克（上海）制冷設(shè)備技術(shù)有限公司版權(quán)所有 備案號：滬ICP備2021029247號-5
技術(shù)支持：化工儀器網(wǎng) 管理登錄 sitemap.xml
電話
掃碼加微信
返回頂部